2021-2022年全球、中国光刻胶行业市场需求增长与市场需求结构统计

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶制作工艺复杂，类别极多，不同种类的光刻胶又可以分为多种细分品种。按照应用领域划分，光刻胶可以分为半导体光刻胶、面板光刻胶和 PCB 光刻胶，其中半导体光刻胶可细分为 g 线、i 线、KrF、ArF 和 EUV 光刻胶，面板光刻胶可细分为黑色光刻胶、彩色光刻胶、触屏用光刻胶和 TFT 配线用光刻胶，PCB 光刻胶可细分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶和光成像组焊油墨。

光刻胶是光刻工艺中的核心材料，具有极高的技术壁垒。在光刻工艺中，光刻胶被涂抹在衬底上，光照或辐射通过掩膜板照射到衬底后，光刻胶在显影溶液中的溶解度便发生变化，经溶液溶解可溶部分后，光刻胶层形成与掩膜版上完全相同的图形，再通过刻蚀在衬底上完成图形转移。光刻工艺的成本约占整个芯片制造工艺的 35%，耗时占整个芯片工艺的40%~60%，光刻胶材料约占芯片制造材料总成本的4%。光刻胶是驱动半导体产品性能提升的关键性材料，由于生产工艺复杂，对纯度要求高，需要长期的研发积累，具有极高的技术壁垒。

光刻胶下游需求广泛，集成电路、显示面板和PCB占主导。从光刻胶产业链的角度来看，光刻胶上游原材料为各类基础化工产品，主要包括感光树脂、增感剂和溶剂。光刻胶下游为印刷电路板、液晶显示屏和IC芯片，广泛应用于消费电子、家用电器、汽车电子等行业。

光刻胶产业链覆盖广

资料来源：公开资料

全球集成电路用光刻胶市场规模稳步增长，中国增速快于全球。光刻胶主要应用领域包括半导体、新型显示及 PCB。从全球的角度，2022 年全球三大领域用光刻胶总体市场规模为 65.7 亿美元（不包括 OLED 用 PSPI），同比-3.4%，主要是受到全球消费电子需求下行的影响。从结构上看，全球集成电路用光刻胶实现逆势增长，2022 年市场规模达到 39.6 亿美元，同比+7.32%。从中国的角度，2022 中国光刻胶市场规模为 146.81 亿美元，同比-3.95%。从结构上看，我国集成电路用光刻胶也保持较快增长，2022 年市场规模达 46.26 亿元，同比增速达+12.60%，显著高于全球同期增速。

2021~2022年全球光刻胶市场规模略微下降（亿美元）

来源：中国电子材料行业协会

2021~2022年中国集成电路用光刻胶市场规模增长较快（亿元）

来源：中国电子材料行业协会