半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品，严重依赖海外进口

发布时间：2022-12-19　　来源：立鼎产业研究网　点击量： 1524　

光敏材料主要包括感光化合物和光致产酸剂，是光刻胶中真正“对光敏感”的化合物，决定了光刻胶感光度、分辨率等关键指标。

感光化合物（PAC））：重氮萘醌酯化合物，多用于线性酚醛树脂体系光刻胶中，如G线/I线光刻胶。感光化合物能在紫外光区或可见光区吸收一定波长的能量，产生自由基、阳离子等，从而引发单体聚合交联固化的化合物，主要影响光刻胶的分辨率和感光度。国内半导体用光引发剂厂商主要是强力新材和久日新材两家。光致产酸剂：常称光酸（PAG），是主要运用于在化学放大型体光刻胶中，包括KrF光刻胶（聚对羟基苯乙烯树脂体系）和ArF光刻胶（聚甲基丙烯酸酯树脂体系）、EUV光刻胶，常温下为固态。

强力新材半导体用光刻胶光引发剂产销情况

资料来源：强力新材公司公告

光敏材料在半导体光刻胶中的作用

资料来源：华懋科技

半导体光刻胶用光敏材料仍属于“卡脖子”产品，进口依赖较重，不同品质之间价格差异大。以国内PAG对应的化学放大型光刻胶（主要是KrF、ArF光刻胶）来看，树脂在光刻胶中的固含量占比约10%-15%，对应的PAG用量为一般按树脂重量的6%-8%添加，最终PAG的成本占光刻胶总成本的10%-20%。从单价看，KrF光刻胶用PAG的价格在0.5-1.5万元/kg，而ArF光刻胶用PAG的价格约1.5-30万元/千克，相差约20倍。在用量上，PAG中ArF光刻胶相较KrF的PAG用量更少，而与PAG相比，PAC在光刻胶中的用量则更大且价格相较PAG大幅降低。