在趋势见解中搜索“抛光垫”的结果共找到 1 个
CMP抛光材料(抛光垫、抛光液)进入壁垒高,全球市场主要由美、日企业垄断
发布时间:2023-08-25
抛光材料主要由美日龙头企业垄断,国产替代空间十分广阔。全球CMP抛光液市场的供应商,主要有美国的卡博特、日本的日立和富士美等,三家公司全球市占率一半以上,中国企业安集科技初步打破了抛光液的进口依赖局面..
2022年全球及中国CMP抛光材料(抛光垫、抛光液)需求现状与市场趋势预测分析
发布时间:2023-08-25
化学机械抛光(CMP)是集成电路制造过程中实现晶圆全局均匀平坦化的关键工艺。CMP是在芯片制造制程和工艺演进到一定程度(0.35μm)、摩尔定律因没有合适的抛光工艺无法继续推进之时诞生的一项新技术,直..
2021年全球CMP抛光液、CMP抛光垫市场竞争格局:呈现寡头及龙头垄断
发布时间:2022-04-24
CMP行业格局方面,抛光液当前的全球主流供应商为:美国当前的全球主流供应商为:美国Cabot、日本Fujimi、日本HinomotoKenmazai、美国杜邦(陶氏)、等公司,占据全球约80%的市场份..
全球抛光垫、抛光液市场格局:国外厂商占据主要市场,国产替代空间大
发布时间:2020-12-14
抛光垫行业竞争格局由陶氏化学寡头垄断,中国本土鼎龙股份是龙头公司。全球化学机械抛光垫市场主要被美国企业所垄断,包括美国的陶氏化学、美国的CabotMicroelectronics等。其中,陶氏化学全球..
2019年全球抛光垫行业市场需求规模、厂商格局及市场前景分析
发布时间:2019-06-14
随着最近两年各大晶圆厂相继投产,国内晶圆制造材料的需求开始大幅增长,尤其是在国家大力推进部分关键材料实现国产化的政策指引下,国内半导体材料行业迎来快速发展,芯片制造用溅射靶材的国产化替代已经在加速,大..