近年国内三氟化氮产业产能持续扩张，自给率快速提升

三氟化氮是市场容量最大的电子特气产品，需求加速将面临短缺。三氟化氮的反应性与氟相似，具有在等离子条件下释放氟气的能力，常温下具有化学惰性，而在高温下可作氧化剂，性质比氧气更具活性但比氟要稳定得多，且易于处理，是电子工业中优良的等离子蚀刻气体和反应腔清洗剂，广泛应用于制造半导体芯片、平板显示器、光伏电池（非晶硅薄膜电池）等领域。作为清洗气，三氟化氮的清洗效果优良，完全分解的温度较低（700~900℃），无害化处理成本低于其它清洗气体，通常 200、300mm 及更大的化学气相沉积（CVD）设备大都采用三氟化氮为主要的清洗气体。作为等离子蚀刻气体，其比 CF4 和 CF4 氧气的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于 1.5μm 的集成电路材料的蚀刻中，NF3 具有非常优良的蚀刻速率和选择性。根据 TECHCET 报告，三氟化氮可能在未来几年可能将出现供应压力，因为预计需求将超过供给量。需求的增加主要来自CVD/ALD 沉积技术过程需要添加多图形化和 EUV 微影曝光，使清洁需求增加，带动常用于真空腔室清洁用的三氟化氮快速增长。

NF3下游主要应用领域

资料来源：公开资料

国外NF3主要生产商有美国AP、BOCEdwards、杜邦(收购原ASG的业务)、日本的关东电化公司(KDK)、中央旭硝子公司CentralGlass(中央玻璃)、三井化学Mitsui公司以及韩国索地福公司等。在国内，中船重工718所、南大光电、昊华科技、SK镇江是三氟化氮主要生产厂家，718所产能第一，达到9500吨/年。

2021年我国部分企业三氟化氮产能统计

资料来源：各公司资料

昊华科技是国内具备高纯度三氟化氮研制能力的领先企业，2015年，黎明院和韩国大成株式会社合资的年产1000吨/年电子级三氟化氮项目建成投产，2018年完成扩能改造，该装置总产能达到2000吨/年。2021年9月，昊华收购大成持有的合资公司40%股权，对黎明大成达到100%控股。根据公司年报披露的产量数据，2017-2021年公司的产量份额保持在16-22%左右。后续公司将扩产3000吨/年三氟化氮，总产能达到5000吨/年。公司凭借技术优势及成熟的销售渠道，已与京东方等下游领先企业建立了稳固合作关系。

昊华科技三氟化氮生产销量

资料来源：公司资料