中国半导体市场全球增速最快，但半导体光刻胶企业仍处于起步阶段

半导体光刻胶根据曝光波长可分为g线（436 nm）、i 线（365 nm）、KrF（248 nm）、ArF（193 nm）和EUV（13.4 nm），曝光波越短，光刻胶的极限分辨率就越高，这样才能应对下游半导体产品小型化、多样化的要求。半导体光刻胶和PCB 光刻胶以及LCD 光刻胶的构成基本类似，主要是由光刻胶树脂和光引发剂组成。但在性能和价格方面，半导体光刻胶要远远高于其他两类；所使用的树脂和引发剂在性能、质量和规格等方面的要求极其严格。

全球半导体光刻胶行业市场结构

资料来源：美国半导体协会，立鼎产业研究中心

全球半导体光刻胶的市场份额

资料来源：美国半导体协会，立鼎产业研究中心

根据美国半导体产业协会统计的数据，2017 年全球半导体市场规模为4050.8 亿美元，同比增长20.98%，增长贡献主要来自于中国；2017 年中国半导体市场规模为1297.2亿美元，增速达22.78%，占全球市场的32%，中国是全球半导体需求增长最快的地区。从全球范围看，半导体产能正持续向亚太地区转移，尤其加速转向中国大陆地区转移，随着5G、消费电子、汽车电子等下游产业的进一步兴起，预计中国半导体产业规模将会进一步增长。

全球半导体销售额及增速

资料来源：美国半导体协会，立鼎产业研究中心

中国集成电路产业销售额及增速

资料来源：中国半导体协会，立鼎产业研究中心

半导体光刻胶市场超过90%市场份额掌握在日本住友、信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等公司手中，国内半导体光刻胶技术和国外先进技术差距较大，仅在市场用量最大的G 线和 I 线有产品进入下游供应链。KrF 线和ArF 线光刻胶核心技术基本被国外企业垄断，国内北京科华KrF(248 nm)光刻胶目前已经通过中芯国际认证，其他处于研发阶段，ArF(193 nm)光刻胶还在积极研发中。

国内强力新材公司产品主要是半导体KrF 光刻胶引发剂光酸及其中间体，其中光酸主要客户是TOK、JSR 等KrF 光刻胶企业，光酸中间体已商业化量产并向日本东洋合成、和光纯药等全球主要KrF 光刻胶用光酸生产企业销售，该市场高度垄断且空间约为7000 万美元，先前主要为日本厂商主导，强力新材公司通过研发成功打破国际垄断，填补国内空白，目前市场份额已经排名全球第三。

全球半导体光刻胶市场规模及增速

资料来源：ICMtia，立鼎产业研究中心