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2022年版全球及中国光刻机行业市场研究报告

报告编号:13224

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——芯片前道工艺七大设备包括光刻机、刻蚀机、镀膜设备、量测设备、清洗机、离子注入机以及其他设备,光机机主要作用为将掩膜版上的芯片电路转移到硅片,是IC制造最为核心环节。光刻机分为三类:一是主要用于生产芯片的光刻机;二是用于封装的光刻机;三是用于LED制造领域的投影光刻机。其中用于生产芯片的光刻机涉及众多世界先进技术,中国光刻机与国外顶尖光刻机存在的差距比较明显。
芯片晶圆加工流程

 
资料来源:公开资料整理,立鼎产业研究中心
——光刻技术是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束发生化学变化,通过曝光、显影、刻蚀等工艺过程,将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术。
光刻机工作原理:激光器作为光源发射光束穿透掩膜版及镜片,经物镜补偿光学误差,将线路图曝光在带有光感涂层的硅晶圆上,然后显影在硅片上,理论上相当于与照相机加投影仪组合。
光刻机的构造分为:照明系统(光源+产生均匀光的光路)、Stage系统、镜头组、搬送系统、Alignment系统。此外光刻机工作温度必须保持在23度,确保硅片在恒温和无尘环境。
光刻机主要性能指标:支持基片尺寸范围、分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
光刻机性能决定了晶体管的尺寸,晶体管的尺寸对于芯片的性能具有重大意义。随着科技高速的发展,对高性能芯片需求越来越高,不断追求尺寸更小、性能更强的芯片。
——光刻机行业产业链中最为核心设备分别为光学镜头和光学光源,其镜头控制光学系统的精密度以及光源决定使用的波长,光刻物镜数值孔径与光源波长决定了光刻机的工艺能力。高数值孔径的镜头决定光刻机分辨率以及套值误差能力,EUV极紫外光刻机唯一可使用的镜头由卡尔蔡司生产;高性能光刻机需要体积小、功率高和稳定的光源,主流EUV光源为激光等离子光源(LPP),目前只有美国厂商Cymer和日本厂商Gigaphoton才能够生产。
第一章 光刻机行业概述
  第一节 光刻机定义
  第二节 光刻机分类
  第三节 光刻机应用领域
  第四节 光刻机产业链结构
  第五节 光刻机行业新闻动态分析


第二章 光刻机行业运行环境
  第一节 光刻机行业发展经济环境分析
  第二节 光刻机行业发展社会环境分析
  第三节 光刻机行业发展政策环境分析
  第四节 光刻机行业发展技术环境分析
    第五节 光刻机行业发展产业环境分析


第三章 全球光刻机行业供需情况分析、预测
  第一节 全球主要光刻机厂商分布状况分析
  第二节 全球光刻机行业产量统计
  第三节 全球光刻机行业需求情况分析
  第四节 全球光刻机行业产量预测分析
  第五节 全球光刻机行业需求情况预测分析


第四章 中国光刻机行业供需情况分析、预测
  第一节 中国主要光刻机厂商分布状况分析
  第二节 中国光刻机行业产量统计
  第三节 中国光刻机行业需求情况分析
  第四节 中国光刻机行业产量预测分析
  第五节 中国光刻机行业需求情况预测分析


第五章 中国光刻机行业进出口情况分析、预测
  第一节 中国光刻机行业进出口情况分析
    一、光刻机行业进口状况分析
    二、光刻机行业出口状况分析
  第二节 中国光刻机行业进出口情况预测分析
    一、光刻机行业进口预测分析
    二、光刻机行业出口预测分析
  第三节 影响光刻机行业进出口变化的主要因素


第六章 中国光刻机行业总体发展情况分析
  第一节 中国光刻机行业规模情况分析
    一、光刻机行业单位规模情况分析
    二、光刻机行业人员规模状况分析
    三、光刻机行业资产规模状况分析
    四、光刻机行业市场规模状况分析
    五、光刻机行业敏感性分析
  第二节 中国光刻机行业财务能力分析
    一、光刻机行业盈利能力分析
    二、光刻机行业偿债能力分析
    三、光刻机行业营运能力分析
    四、光刻机行业发展能力分析


第七章 中国光刻机行业重点区域发展分析
    一、中国光刻机行业重点区域市场结构变化
    二、重点地区(一)光刻机行业发展分析
    三、重点地区(二)光刻机行业发展分析
    四、重点地区(三)光刻机行业发展分析
    五、重点地区(四)光刻机行业发展分析
    六、重点地区(五)光刻机行业发展分析


第八章 光刻机行业细分市场调研
  第一节 细分(一)市场调研
    一、发展现状调研
    二、发展趋势预测分析
  第二节 细分(二)市场调研
    一、发展现状调研
    二、发展趋势预测分析


第九章 光刻机行业上、下游市场调研分析
  第一节 光刻机行业上游调研
    一、行业发展现状调研
    二、行业集中度分析
    三、行业发展趋势预测分析
  第二节 光刻机行业下游调研
    一、关注因素分析
    二、需求特点分析


第十章 中国光刻机行业产品价格监测
    一、光刻机市场价格特征
    二、当前光刻机市场价格评述
    三、影响光刻机市场价格因素分析
    四、未来光刻机市场价格走势预测分析


第十一章 光刻机行业重点企业发展情况分析
  第一节 重点企业(一)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划
  第二节 重点企业(二)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划
  第三节 重点企业(三)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划
  第四节 重点企业(四)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划
  第五节 重点企业(五)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划
  第六节 重点企业(六)
    一、企业概况
    二、企业主要产品
    三、企业销售网络
    四、企业经营状况分析
    五、企业发展规划


第十二章 光刻机企业发展策略分析
  第一节 光刻机市场策略分析
    一、光刻机价格策略分析
    二、光刻机渠道策略分析
  第二节 光刻机销售策略分析
    一、媒介选择策略分析
    二、产品定位策略分析
    三、企业宣传策略分析
  第三节 提高光刻机企业竞争力的策略
    一、提高中国光刻机企业核心竞争力的对策
    二、光刻机企业提升竞争力的主要方向
    三、影响光刻机企业核心竞争力的因素及提升途径
    四、提高光刻机企业竞争力的策略
  第四节 对我国光刻机品牌的战略思考
    一、光刻机实施品牌战略的意义
    二、光刻机企业品牌的现状分析
    三、我国光刻机企业的品牌战略
    四、光刻机品牌战略管理的策略


第十三章 光刻机行业投资情况与发展前景预测
  第一节 光刻机行业投资情况分析
  第二节 光刻机行业投资机会分析
    一、光刻机投资项目分析
    二、可以投资的光刻机模式
    三、光刻机投资机会分析
    四、光刻机投资新方向


第十四章 光刻机行业进入壁垒及风险控制策略
  第一节 光刻机行业进入壁垒分析
    一、技术壁垒
    二、人才壁垒
    三、品牌壁垒
  第二节 光刻机行业投资风险及应对措施
    一、光刻机市场风险及应对措施
    二、光刻机行业政策风险及应对措施
    三、光刻机行业经营风险及应对措施
    四、光刻机同业竞争风险及应对措施
    五、光刻机行业其他风险及应对措施


第十五章 光刻机行业研究结论
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标签:光刻机

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