铟价和铟金属的稀有性限制ITO靶材大规模应用，低铟化成长期趋势

——铟价和铟金属的稀有性限制ITO靶材大规模应用。铟主要是锌矿的伴生金属，无法形成具有工业价值的独立矿床，全球约有95%的铟来自于锌矿生产。根据中国铟资源动态物质流研究表明，2017年我国查明铟储量为..

国内晶圆厂扩建热潮带来靶材需求增量，市场规模不断扩大

国内集成电路市场需求旺盛，贸易逆差巨大。17-21年中国集成电路产业高速发展，市场规模从17年5411亿增长至21年约10458亿元，CAGR为18%。中国集成电路需求旺盛，国内自给量不足，对外依赖度..

溅射靶材是PVD核心耗材，半导体领域用溅射靶材技术壁垒最高

溅射工艺属于物理气相沉积（PVD）技术的一种，是制备电子薄膜材料的主要技术之一，其利用离子源产生的离子，在真空中加速聚集成高速离子流，轰击固体表面，离子和固体表面的原子发生动能交换，使固体表面的原子离..

2015-2021年我国溅射靶材行业相关政策汇总

——镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，即高速荷能粒子轰击的目标材料。靶材是制备薄膜的主要材料之一，是溅射镀膜的上游端以及金属提..

2022年我国溅射靶材行业各领域市场需求前景及市场规模增长预测分析

——镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，即高速荷能粒子轰击的目标材料。靶材是制备薄膜的主要材料之一，是溅射镀膜的上游端以及金属提..

半导体领域用溅射靶材对性能要求最高，国内企业正处在加速替代过程中

——半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，也是对靶材的成分、组织和性能要求最高的领域。纯度方面，不同领域的溅射靶材要求也不同，半导体芯片对于靶材的要求通常要求达到99.9995%（5N5）以..

2018年全球靶材行业产业格局及主要企业分析

全球靶材制造行业呈现寡头垄断格局，少数日美化工与制造集团主导了全球靶材制造行业，产业集中度高。靶材行业下游的区域集聚性造就了高纯溅射靶材生产企业的高度聚集，目前全球溅射靶材研制和生产主要集中在美国、日..

18年全球及中国靶材（高纯溅射靶材）行业市场规模

高纯溅射靶材全球市场规模近百亿美元，其中半导体用靶材全球市场规模约在十亿美元以上，市场规模居于平板显示器、记录媒体以及太阳能电池之后，是高纯溅射靶材的主要应用领域之一。随着移动智能终端、平板电脑、消费..

靶材行业简介、生产工艺以及技术壁垒分析

高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%(3N-6N之间)的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积(PVD)工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。溅射..

溅射靶材企业集中度高，2017 年主要企业占全球 80%份额

以霍尼韦尔（美国）、日矿金属（日本）、东曹（日本）等跨国集团为代表的溅射靶材生产商较早涉足该领域，经过几十年的技术积淀，凭借其雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量居于全球溅射靶材市场的主导地..