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在趋势见解中搜索“光刻胶”的结果共找到 2

  • 国内外CMP 抛光液和光刻胶去除剂主要生产企业情况

    国内外CMP 抛光液和光刻胶去除剂主要生产企业情况

    发布时间:2019-05-27

    半导体材料行业壁垒较高。对于半导体材料行业,新进入者主要面临技术壁垒、人才壁垒、客户壁垒和资金壁垒。首先,半导体材料应用领域差异较大,单个企业很难掌握跨领域的知识储备和工艺技术,行业对于生产技术、机器..

  • 中国半导体市场全球增速最快,但半导体光刻胶企业仍处于起步阶段

    中国半导体市场全球增速最快,但半导体光刻胶企业仍处于起步阶段

    发布时间:2018-12-25

    半导体光刻胶市场超过90%市场份额掌握在日本住友、信越化学、JSR、TOK、美国陶氏等公司手中,国内半导体光刻胶技术和国外先进技术差距较大,仅在市场用量最大的G线和I线有产品进入下游供应链。Kr..

  • 光刻胶行业概述及其应用领域分析

    光刻胶行业概述及其应用领域分析

    发布时间:2018-07-20

    光刻胶是图形转移介质,其利用光照反应后溶解度不同将掩膜版图形转移至衬底上。目前广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作,是电子制造领域关键材料。以半导体光刻胶为例,在光刻工艺中,光刻胶被均匀涂布在衬..

  • 住友化学深耕半导体行业光刻胶领域

    住友化学深耕半导体行业光刻胶领域

    发布时间:2018-05-16

    住友化学自20世纪末就开始了对半导体领域光刻胶材料的研发,公司在2001年前后就已经研制出以酚醛树脂和重氮萘醌化合物为原料的g线和i线光刻胶,2004年前后研制出适用于KrF技术的光刻胶,2..

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