中微公司：国产刻蚀设备+MOCVD设备龙头，业绩进入快速增长期，盈利能力优异

发布时间：2022-09-01　　来源：立鼎产业研究网　点击量： 2143　

——2004年，尹志尧博士回国创业，在上海创办中微半导体设备公司，积极推动半导体设备的国产化。公司成立之初专注于半导体刻蚀设备，2007年推出首台CCP刻蚀设备，2008年承担国家“02专项”，2010年推出首台TSV/MEMS/Dicing刻蚀设备，CCP刻蚀设备在2011年、2013年、2016年分别突破45nm、22nm、14nm和7nm，技术不断精进。公司2016年同时推出首台ICP刻蚀设备、VOC设备和第二代MOCVD设备，产品线不断拓展，于2019年登陆科创板。2020年，公司推出用于Mini-LED量产的MOCVD设备，再次取得突破。2021年公司开发出用于钨填充的LPCVD设备，并取得阶段性进展，能够满足客户工艺验证需求。

公司股权结构较分散，无实际控制人。截至2021年年末，隶属上海市国资委的上海创投是第一大股东，持股比例为15.64%；巽鑫投资是第二大股东，隶属于国家大基金，持股比例为15.15%，两者持股比例接近，公司重要决策各方共同参与，无实际控制人。大基金二期于2021年进入，持股为3.97%。

公司目前主要产品包括刻蚀设备、MOCVD设备、VOC设备

资料来源：公司资料

——公司刻蚀设备与MOCVD 设备客户均为全球知名企业。1）刻蚀设备：公司主要客户覆盖全球主流的晶圆制造商，包括台积电、英特尔、联华电子、格罗方德、海力士、意法半导体、博世、中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储等；2）MOCVD 设备：公司主要客户覆盖亚洲知名LED企业，包括三安光电、晶元光电、华灿光电、乾照光电、兆驰股份、三星等。

公司拥有严格的知识产权管理体系，四次国际诉讼中立于不败之地。公司注重知识产权保护，在进行产品研发的同时会避开竞争对手的专利，保证合规运作。刻蚀设备方面，公司2007、2009年分别被AMAT、Lam起诉专利侵权，最终均达成和解或胜诉。

2010年公司诉讼Lam商业秘密侵权被判胜诉。MOCVD设备方面，Veeco在2017年诉讼专利侵权，最后也达成和解。公司在四次国际专利诉讼中均立于不败之地。

公司产品力突出，打破国外垄断，使得美国放开对华等离子刻蚀机出口管制。美国商务部工业安全局2015年评估中国已有能力供应同等质量的等离子刻蚀机产品，出口管制已达不到原先目的，取消相关限制，反映公司刻蚀设备产品已达国际先进水平。

公司四次经历国际专利诉讼

资料来源：公司资料

——2016-2021年公司营业收入持续增长，从6.10亿元上升至31.08亿元，CAGR达38.52%，主要系公司新产品与新客户的拓展，尤其是刻蚀设备销量提升显著且持续。2017年公司归母净利润扭亏为盈，2017-2021年归母净利润进入高速增长期，从0.3亿元上升至10.1亿元，CAGR达141.13%。2018年公司扣非归母净利润扭亏为盈；2020年扣非归母净利润为0.2亿元，同比减少84.19%，除了受疫情影响之外，更主要系公司2020年实施股权激励产生股份支付费用约1.2亿元，而2019年无该费用影响，若加回股份支付费用，公司2020年扣非归母净利润与2019年基本持平；2021年恢复增长，达到3.2亿元。

2017-2021年营收CAGR38.5%

资料来源：公司资料

2017-2021年归母CAGR141.1%

资料来源：公司资料

公司毛利率总体呈现先降后升的趋势。2017-2019年期间毛利率略有降低，主要系2017年公司推出PrismoA7MOCVD设备，推广初期采用较优惠的价格开拓市场，毛利率较低，而收入占比又大幅提升，拉低整体毛利率。2019-2021年毛利率从34.93%上升至43.36%，主要系公司毛利率较高的刻蚀设备收入占比提升，另外，公司2021年推出的UniMaxMOCVD性能已达到国际领先，议价能力增强，带动2021年毛利率大幅上升。

期间费用率总体下降，结构有所优化。公司期间费用率在2020年有所上升，主要系公司股权支付费用影响，2021年期间费用率为26.56%，同比下降4.8pct，其中销售、管理、财务费用率有所下降，研发费用率有所上升，维持在10%以上的高水平。

毛利率的总体提升与费用率的总体下降共同驱动公司净利率持续增长。2017-2021年公司净利率从3.08%上升至32.54%，大幅改善。

公司毛利率先降后升，净利率持续上升

资料来源：公司资料

营收方面：刻蚀设备业务营收占比最高，保持稳定增长，2021年营收为31.08亿元，占比为64.48%；MOCVD设备业务营收有所波动，2021年营收为5.03亿元，占比为16.18%；备品备件业务保持稳定增长，2021年营收为5.56亿元，占比为17.89%；设备维护业务占比较低，2021年营收为0.45亿元，占比为1.45%。

毛利率方面：2021年设备维护（63.64%）>备品备件（46.92%）>刻蚀设备（44.32%）>MOCVD设备（33.77%）。近几年趋势来看，刻蚀设备毛利率基本维持在40%以上的高水平；MOCVD设备毛利率在2017年开始有所下降，主要系采用价格优惠拓展市场，2021年UniMax推出后大幅回升。

刻蚀设备营收占比最高，保持稳定增长

资料来源：公司资料

公司2019-2021年毛利率、净利率持续上升，与海外龙头厂商差距不断缩小。

•毛利率方面：同业对比来看，公司2021年毛利率为43.36%，高于行业平均水平，仅次于应用材料与泛林半导体，主要系公司产品成熟并不断高端化，并进入放量阶段。

•净利率方面：由于公司存在较多非经常性收益（政府补助等），2021年净利率达32.54%，远高于行业平均水平，2021年扣非后净利率为19.64%，高于国内行业平均水平，但与海外企业相比仍有差距，公司正处于追赶过程。

2019-2021年公司毛利率、净利率持续上升，高于行业平均水平，比肩国际大厂

资料来源：Wind

公司实现产业多点布局，新建南昌基地负责MOCVD设备的研发、设计、生产与销售，预计2022年6月将陆续投入使用。新建临港基地与总部负责半导体设备的研发、设计、生产与销售，临港产业化基地项目已经完成结构封顶，预计2023年投入使用，中微临港总部和研发基地项目正在进行施工前临设搭建、机械进场组装等准备工作，预计2024年可投入使用。从厂房总面积来看，预计2022、2023、2024年底公司厂房面积分别达到16.8、34.8、45.3万平方米，相比现有的2.8万平方米翻番数十倍。公司积极进行厂房扩建，在成本相对低、拿地相对便利的时候提前布局未来10-15年的厂房，为公司未来打好硬件设施基础，彰显公司对自身发展的信心。